納米壓印具有分辨率高（可達5納米以下）、成本低、工藝簡單等優勢， 被列為下一代32nm節點光刻技術的有前景技術之一。其核心工藝包括模板制造、壓印過程（模板處理、加壓、脫模）及圖形轉移，涉及多種材料如模板材料、襯底材料和壓印膠。納米壓印在半導體光電器件、存儲器件、生物技術等領域廣泛應用，如制備光子晶體、高密度存儲器、DNA分析微陣列等。

疏水氣相沉積設備 超疏水處理系統應用領域

納米壓印工藝：硬模板法制備超疏水表面的核心在于利用剛性結構模具精確復制微觀形貌實際工作中常用陽極氧化鋁(Anodic Aluminum Oxide)或硅(Silicon)模板其規整的納米孔道能高效構筑表面微納二級結構。采用 AAO模板配合聚二甲基硅氧烷(PDimethylsiloxane)進行納米壓印，脫模機（抗粘劑）氣相沉積工藝。超疏水處理系統可達8次以上脫模。

自清潔表面：應用于建筑外墻、太陽能電池板、交通工具外殼等，可利用雨水實現自清潔，減少維護成本。

防冰與防霜：超疏水表面能顯著延遲結冰時間并降低冰粘附強度，在航空、電網和制冷系統中有巨大應用潛力。

油水分離：超疏水/超親油或多孔超疏水材料可用于高效分離油水混合物，在處理工業含油廢水和海洋漏油事故中作用關鍵。

金屬防腐：超疏水涂層能有效阻隔水、氧氣及腐蝕性離子（如Cl?）與金屬基體接觸，是一種綠色高效的金屬防護策略。

船舶減阻：超疏水表面形成的 “空氣墊" 可減小船體與水的接觸面積，航行阻力降低 20%~30%，顯著節省能耗。