可程式HMDS真空 烘箱  HMDS真 空烘箱用途

用于光刻膠粘合的 HMDS 氣相沉積

晶圓基底脫水烘烤

用于半導體激光器芯片金屬剝離處理的光刻膠圖像反轉

HMDS真空烘箱特點

我們的控制系統支持用戶根據需要選擇溫度、處理時長及腔室尺寸。具有卓&越的 HMDS 鍵合和均勻性性能可實現高產量。

此外，我們的技術還能降低化學物品的使用量和成本，大批量產能和接近零的化學廢物排放，實現經濟效益。

通過工藝處理，達到圖像反轉效果，解決了圖像反轉光刻膠的復雜性。>99% 的正常運行時間和可靠性，具有經過客戶驗證的卓&越一致性和可重復性

可程式HMDS真空 烘箱  HMDS真 空烘箱性能

設備型號：JS-HMDS90AI                           

工作室尺寸（mm）： 300*300*300，450×450×450，650*650*650,1000*1000*1000可定制
材質：內箱采用316L醫用級不銹鋼
溫度范圍：RT+10-200℃ 
溫度波動度：≤±0.5
真空度：1torr
操作界面：人機對話，一鍵式作業
分層數量：1-8層
HMDS控制:可控制HMDS藥夜添加
真空泵：無油渦旋干泵
保護系統:HMDS藥液泄漏報警提示，超溫保護，漏電保護，過熱保護

可程式HMDS真空烘箱  HMDS真空烘箱  高溫HMDS真空烘箱應用于半導體工藝生產、科研機構、研發平臺、高校實驗室等，及新材料、新技術行業。

   上海雋思儀器專注于半導體設備， 硅烷氣相沉積設備、精密熱板、HMDS預處理系統、HMDS真空烘箱、無塵烘箱、潔凈烘箱，氮氣烘箱、無氧烘箱、無塵無氧烘箱、真空烘箱、真空無氧烘箱、干燥烘箱、真空儲存柜、環境可靠性設備、超低溫試驗箱、高精度烤膠機等設備，同時可根據客戶要求設計非標類 適用的產品。