掩膜版HMDS真空烘箱    hmds烤箱應用原理

   掩膜版（Photomask），又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微電子、集成光電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版， 由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，并通過曝光將圖形轉印到晶圓上。

掩模版在設計時有著明場和暗場之分，在其與之光刻膠（正、負膠）曝光時可以根據工藝時的需要來選擇設計。上文已經提到正光刻膠曝光區(qū)域被溶解，負膠則相反。

掩膜版主要由基板和遮光膜兩個部分組成。基板分為樹脂基板和玻璃基板，玻璃基板主要包括石英基板和蘇打基板，根據遮光膜種類的不同，可以分為硬質遮光膜和乳膠。

掩膜版HMDS真空烘箱    hmds烤箱功能

材質：內箱采用316L級不銹鋼

工藝溫度：100-150℃

溫度分辨率：0.1℃

溫度波動度：≤±0.5

真空度：≤133pa（1torr）

操作界面：人機界面，一鍵作業(yè)

層數:1-2層

HMDS控制:可控制HMDS藥液的添加量

圖像處理：圖像反轉

真空泵: 進口無油泵

保護裝置：緊急停止，HMDS藥液泄漏報&警提示，HMDS低液位報&警，超溫保護，漏電保護，過熱保護等

 掩膜版HMDS真空烘箱  光罩hmds烘箱  hmds預處理烤箱使基底表面由親水性變?yōu)槭杷?，增強表面的黏附性（HMDS-六甲基二硅胺烷）。適用于硅片、麟化銦、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料。