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P產品分類RODUCT CATEGORY
真空無氧烘箱，PI固化厭氧烤箱用于PI/BCB/LCP固化，半導體封裝等。溫度范圍：RT+30～450℃； 溫度波動度：±1℃； 溫控精度：0.1℃;氧濃度：10ppm真空度：100pa
產品型號：廠商性質：生產廠家更新時間：2025-09-17訪 問 量：3214
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真空無氧烘箱，PI固化厭氧烤箱適用工藝：
PI固化厭氧烤箱用于用于PI/BCB/LCP固化，半導體封裝等，也用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影等。
真空無氧烘箱，PI固化厭氧烤箱技術性能：
內腔尺寸：1000*800*1000(mm)
溫度范圍：RT+30～450℃；
溫度波動度：±1℃；
溫控精度：0.1℃;
氧濃度：10ppm
真空度：100pa
降溫方式：快速降溫
操作方式：人機界面，智能型一鍵運行；
內膽材料:采用 #304鏡面不銹鋼制作；
外殼材料：采用優質冷軋板噴塑；
置換氣體：氮氣；
電源：380v/50Hz，5KW；
支撐裝置：腳杯和萬向輪；
廠商品牌：雋思。
高溫無氧烘箱，潔凈烘箱，HMDS真空烤箱，硅烷蒸鍍機，無塵無氧烤箱，氮氣烤箱，超低溫試驗箱，快溫變試驗箱，恒溫恒濕試驗箱，高低溫沖擊試驗箱等設備，以及非標定制。---上海雋思儀器專業生產/服務！
智能型HMDS真空系統（JS-HMDS90-AI）用途：
在半導體生產工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。增黏劑 HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS氣相沉積至半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后，經系統加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。
智能型HMDS真空系統（JS-HMDS90-AI）技術性能：
1.尺寸（深*寬*高）
內腔尺寸：450×450×450（mm）（可定制）
2. 材質：外箱采用優質冷軋板噴塑，內箱采用 316L 醫用級不銹鋼
3.溫度范圍：RT+50-250℃
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