智能型HMDS蒸鍍機臺概述

智能型HMDS蒸鍍機臺通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料預處理及相關行業。

特點

Ø  預處理性能更好：由于是在經過數次的氮氣置換后進行的HMDS處理，所以不會在有塵埃的干擾，再者，由于該系統是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝，同一個容器中進行，晶片在容器里先經過100℃-200℃的去水烘烤，再接著進行HMDS處理，不需要從容器里傳出，而接觸到大氣，晶片吸收水分子的機會大大降低，所以有著更好的處理效果。

Ø  處理更加均勻：由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液態涂布不可比擬更好的均勻性。

Ø  效率高：液態涂布是單片操作，而本系統一次可以處理多達8盒（4寸）的晶片。

Ø  更加節省藥液：實踐證明，用液態HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統處理4盒晶片所用藥液還多。

?系統結構

Ø  加熱系統：由于工藝的整個過程都需要在200℃左右的環境下進行，所以自始至終加熱系統都在工作。本系統采用在腔內分布兩塊獨立的熱板來實現加熱，每個熱板都采用人工智能PID調節儀實現閉環控制，調節儀控制固態繼電器的輸出從而實現溫度的精確穩定控制，測溫采用通用的高精度熱敏電阻Pt100。

Ø  真空系統：由真空泵、真空組件、真空測量等組成，主要作用是置換氣體和抽走剩余HMDS蒸汽。

Ø  充氮系統：作用是在置換過程中，用氮氣來逐漸稀釋空氣或藥液蒸汽，從而終替換空氣或藥液蒸汽的氣氛。主要由氮氣源、控制閥和噴頭組成。