HMDS烘箱真空泵，HMDS系統(tǒng)用油泵在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。

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更新時(shí)間：2025-09-16
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HMDS烘箱真空泵，HMDS系統(tǒng)用油泵簡介

HMDS烘箱真空泵，HMDS系統(tǒng)用油泵廣泛應(yīng)用于制冷、電子、化工、醫(yī)藥、食品及科研所實(shí)驗(yàn)室的設(shè)備和自動生產(chǎn)線上。先進(jìn)的設(shè)計(jì)理念加工更加合理的加工工藝，使各項(xiàng)性能指標(biāo)都達(dá)到了JB/T53017-92一等品標(biāo)準(zhǔn)，其性價(jià)比在同行業(yè)中。

技術(shù)參數(shù)

型號		DM2	DM4	DM8	DM15
抽氣速率（L/S）		2	4	8	15
極限分壓強(qiáng)（Pa）	氣鎮(zhèn)關(guān)	≤4×10^－2	≤4×10^－2	≤4×10^－2	≤4×10^－2
極限分壓強(qiáng)（Pa）	氣鎮(zhèn)開	≤8×10^－2	≤8×10^－2	≤8×10^－2	≤8×10^－2
極限總壓強(qiáng)（Pa）	氣鎮(zhèn)關(guān)	≤5×10^－1	≤5×10^－1	≤5×10^－1	≤5×10^－1
極限總壓強(qiáng)（Pa）	氣鎮(zhèn)開	≤1	≤1	≤1	≤1
噪聲LP/LW		52/63	54/65	58/71	59/72
水蒸氣抽除率（L/h）		360	520	600	1200
進(jìn)氣口直徑		DN25ISOKF	DN25ISOKF	DN40ISOKF	DN40ISOKF
排氣口直徑		DN25ISOKF	DN25ISOKF	DN40ISOKF	DN40ISOKF
zui高油面工作溫度		80	85	125	130
用油量（L）		1.1	1.5	3.4	4.5
轉(zhuǎn)速r/min		1400	1430	1400	1420
電動機(jī)功率（kw）		0.37	0.55	1.1	1.5
重量（kg）		27	36	60	70
外形尺寸（mm）		510×174×274	550×174×274	635×236×383	695×236×383

智能型HMDS烘箱，全自動HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的重要性：
光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。

智能型HMDS烘箱，全自動HMDS預(yù)處理系統(tǒng)主要技術(shù)性能：

電源電壓：AC 220V±10%/50Hz±2%

輸入功率：2500W

控溫范圍：RT+10℃-250℃

溫度分辨率：0.1℃

溫度波動度：±0.5℃

達(dá)到真空度：133Pa（1torr）

工作室尺寸（mm）：450*450*450、350*350*350（可自定義）

智能型HMDS烘箱，全自動HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的*性：

預(yù)處理性能更好，更加均勻；效率高,一次可以處理多達(dá)4盒的晶片；更加節(jié)省藥液；低液報(bào)警、防藥液泄漏等具有很強(qiáng)的安全保護(hù)功能；，有可自動吸取添加HMDS功能，智能型的程式設(shè)定，一鍵完成作業(yè)

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