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堅膜烘箱，真空堅膜烤箱用于半導體制造中半導體襯底片、硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料顯影后堅膜烘烤；也適用于涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤以及電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫藥、實驗室等生產及科研部門。
產品型號：廠商性質：生產廠家更新時間：2025-09-16訪 問 量：1948
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堅膜烘箱，真空堅膜烤箱的用途：
堅膜烘箱用于半導體制造中半導體襯底片、硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料顯影后堅膜烘烤；也適用于涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤以及電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫藥、實驗室等生產及科研部門。
1、*蒸發掉光刻膠里面的溶劑（以免在污染后續的離子注入環境，例如DNQ酚醛樹脂光刻膠中的氮會引起光刻膠局部爆裂）；
2、以提高光刻膠在離子注入或刻蝕中保護下表面的能力；
3、進一步增強光刻膠與硅片表面之間的黏附性；
4、進一步減少駐波效應。
堅膜烘箱，真空堅膜烤箱主要參數：
潔凈度：百級；
電源電壓：AC 220V±10%/50Hz±2%
輸入功率：2000W
溫度范圍：RT+10℃-250℃
溫度分辨率：0.1℃
溫度波動度：±0.5℃
達到真空度：133Pa（可選擇熱風循環烤箱）
工作室尺寸（mm）：450*450*450
擱板層數：2層
設備采用先進成熟的設計思想，制造技術。
設備在具有優良的品質，即可靠性要高，使用壽命長。
設備具有良好的操作性，方便的維修性，可靠的安全性。
使用注意事項：
1、烘烤不足，會減弱光刻膠的強度（抗刻蝕能力和離子注入中的阻擋能力）；降低針孔填充能力；降低與基底的黏附能力。
2、烘烤過度，引起光刻膠的流動，使圖形精度降低，分辨率變差。
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