PI膠高溫固化烤箱，半導體PI固化爐用于PI高溫固化烘烤。廣泛應用于微電子工業中的半導體器件表面的保護、密封、應力緩沖保護和半導體器件表面鈍化、內涂料、層間絕緣和介電薄膜材料以及液晶顯示器的液晶分子取向膜材料，對改善器件性能、提高器件可靠性，具有防潮、防金屬離子遷移、防污染，降低漏電流，同時對器件的引線、焊點等薄弱部位具有增固加強的作用。所以，PI的固化工藝非常重要。

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更新時間：2025-09-16
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PI膠高溫固化烤箱，半導體PI固化爐簡介：

PI膠高溫固化烤箱，半導體PI固化爐用于PI高溫固化烘烤。PI（聚酰亞胺）是一種高粘附性微電子用高純涂層材料，其zui大特點是可以直接用于半導體器件表面，形成高粘附性的聚酰亞胺薄膜，實施工藝中可免除涂敷偶聯劑，簡化使用工藝，保證了器件的可靠性，提高了成品率。廣泛應用于微電子工業中的半導體器件表面的保護、密封、應力緩沖保護和半導體器件表面鈍化、內涂料、層間絕緣和介電薄膜材料以及液晶顯示器的液晶分子取向膜材料，對改善器件性能、提高器件可靠性，具有防潮、防金屬離子遷移、防污染，降低漏電流，同時對器件的引線、焊點等薄弱部位具有增固加強的作用。所以，PI的固化工藝非常重要。
技術參數：
1. zui高溫度：450℃；可自定義
2. 工作室尺寸：450×650×450mm（W×H×D）；可自定義
3. 箱體數量:一個；可自定義兩箱
4. 腔體材料：SUS304鏡面不銹鋼；
5. 加熱元件：不銹鋼加熱器；
6. 熱電偶：K型熱電偶；
7. 空箱升溫時間：可控制，斜率升溫；
8. 空箱降溫時間：可控制，斜率降溫；
9. 記錄儀:溫度和氧含量記錄儀；
10. 氧含量-氧分析儀：
高溫狀態氧含量：≤ 20ppm +氣源氧含量
低溫狀態氧含量：≤ 50ppm +氣源氧含量
11. 溫度波動度：±1℃；
12. 溫度均勻度：±5%（300℃平臺）；
基本配置：
1. 控制：單獨控制；
2. 排風口：一個；
3. 控溫儀表：日本理化FP23溫控儀；
4. 控溫段數：20×20段；
5. 控溫點數：一點；
6. 超溫報警點數：一點；
7. 檢測點數：六點；
8. 高溫開爐門保護：當溫度超過100℃，電子鎖自動鎖緊，防止高溫開門
9. 報警保護：超溫、元件故障等聲光報警保護；
10. 超溫保護：獨立感溫式超溫保護器；
11. 電機保護：電機過電流、過熱保護；
12. 表面溫升：＜30℃；
13. 加熱功率：12kW；
14. 保溫功率： ≤9kW；
15. 電源：380VAC，50Hz；

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