光刻膠在曝光完成后，光刻膠需要經過再一次烘烤，因為這次烘烤在曝光后，所以稱為“曝光后烘烤”，簡稱后烘或堅膜，英文為Post Exposure Bake(PEB)。
 

　　曝光后烤膠臺/潔凈烘箱PEB烘烤的目的--通過加熱的方式，使得光化學反應能夠充分完成。
 

　　對于酚醛樹脂體系的光刻膠，PEB可以擴散感光劑以消除駐波效應。并且，PEB溫度不同時，感光劑的擴散距離不同，消除駐波的效果也不一樣。PEB在110度時，消除駐波效應明顯。
 

　　對于化學放大型光刻膠，在后烘過程中，光酸起到催化光刻膠樹脂的去保護反應(Deprotection Reaction)，又稱為脫保護反應。

　　大量實驗表明，烤膠臺烘烤溫度的起伏是影響線寬均勻性的主要因素之一。在設置后烘工藝時， 對熱盤溫度均勻性的要求一般比軟烘的要求更高。
 

　　烤膠臺/潔凈烘箱PEB烘烤性能
 

　　智能型烤膠機
 

　　加熱尺寸：220*220mm(可定制),適用于Ø200毫米(8英寸)圓片或200x 200毫米方片以下尺寸產品；
 

　　溫度范圍：RT～300°C
 

　　溫度精度：0.1°C；
 

　　溫度均勻性：≤±0.5℃；
 

　　電動頂針調節高度: 0～30mm；
 

　　加熱臺表面：耐腐蝕硬質陽極氧化鋁制成；
 

　　控制器單元：7寸全彩觸摸屏，高級PLC控制，實現在特定時間內自動升降，可以定時取片；
 

　　潔凈烘箱
 

　　無塵等級：Class100;
 

　　溫度范圍：RT～300/450℃；
 

　　溫度均勻度：200℃±3℃;
 

　　溫度波動度：±0.5℃(空載)
 

　　工作尺寸(mm)：
 

　　450×450×450
 

　　500×500×500
 

　　600×700×800(可定制)
 

　　可擴展功能：
 

　　氧濃度檢測，無塵無氧烘箱
 

　　智能聯網功能，MES等工業自動化軟件
 

　　掃碼槍，掃碼溯源，一鍵讀取
 

　　自動門控，上位機程控，機械手搬運產品